马斯克，要颠覆EUV光刻机？

马斯克或探索FEL自由电子激光路线，挑战ASML的LPP EUV光源。FEL具备高功率、高相干、波长可调和更高能效等优势，理论上可将光刻光源从13.5nm推向6nm甚至更短波长。不过，庞大的加速器系统、成本及量产稳定性仍是产业化最大挑战。

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